6대 온실가스

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  01 이산화탄소[CO₂]

  이산화탄소는 산림벌채, 에너지 사용, 석탄/석유연료 등 화석연료의 연소 등이 발생 원인입니다. 지구온난화지수(Global Warming Potential : GWP)는 1에 해당되며, 전체 배출량은 88.6%에 해당됩니다.

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  02 메탄[CH₄]

  메탄은 가축 사육, 습지, 논, 음식물 쓰레기 더미 등이 주 발생 원인입니다. 지구온난화지수(Global Warming Potential : GWP)는 21에 해당되며, 전체 배출량은 4.8%에 해당됩니다.

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  03 아산화질소[N₂O]

  석탄, 폐기물 소각, 질소비료 등 화학비료의 사용 등이 주 발생 원인입니다. 지구온난화지수(Global Warming Potential : GWP)는 310에 해당되며, 전체 배출량은 2.8%에 해당됩니다.

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  04 수소불화탄소[HFCs]

  에어컨 냉매, 스프레이 제품 분사제 등이 주 발생원인입니다. 지구온난화지수(Global Warming Potential : GWP)는 140~11,700에 해당됩니다.

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  05 과불화탄소[PFCs]

  반도체 세정제 등에 사용되어 배출되는 가스입니다. 지구온난화지수(Global Warming Potential : GWP)는 6,500~9,200에 해당됩니다.

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  06 육불화황[SF₆]

  전기제품과 변압기, 디스플레이 공정의 절연체 등이 주 발생 원인입니다. 지구온난화지수(Global Warming Potential : GWP)는 23,900에 해당됩니다.

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  07 삼불화질소[NF₃]

  반도체, 디스플레이 제조 공정에서 발생하는 이물질을 세척하는 데 활용되는 가스입니다. 지구온난화지수(Global Warming Potential : GWP)는 16,100에 해당됩니다.

제품소개

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  01 PFCs 처리 기술

  촉매식 PFCs 분해 시스템으로 세계 최초 대용량으로 개발하였습니다. 대형 시스템에 적합한 비금속 촉매 성형기술을 적용하였으며, 직접가열 소각법 보다 에너지 소모가 적고 95% 열 회수가 가능한 점이 특징입니다.

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  02 하이브리드 PFCs 분해 시스템

  촉매식 PFCs 분해설비 + 플라즈마 방식을 적용한 하이브리드 제품으로 소형화 하여 공간활용도를 높였습니다. 촉매방식과 플라즈마 방식의 장점만 접목하여 경제적이고 보다 효율적인 완성도 있는 제품을 개발하였습니다.

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  03 De-N₂O & NOx 처리 기술

  De-N₂O & NOx System은 N₂O, NOx 등을 촉매를 이용하여 N₂ + H₂O 분해시켜 제어하는 설비입니다. 한 종류의 촉매를 통해 N₂O, NOx를 동시에 제거가 가능하며, Turbine 전단에 설치시 고압, 후단에 설치시 상압조건으로 약 360~500℃에서 운전되며, NH₃가 환원제로 사용됩니다.

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온실가스 감축 솔루션

N₂0 제거 촉매, 처리설비 기술보유

질소산화물을 촉매를 이용하여 N₂+H₂O로 분해시켜 제어하는 설비

(저온과 고온에서 90% 이상의 높은 전환율을 확보할 수 있는 특화된 촉매)

독자적인 온실가스
제거 촉매 개발/생산

11년간 온실가스
저감설비 설치 노하우

국내 및 해외에 터빈 전/후단
설치 Reference 보유

이러한 기술을 바탕으로 진행되는

탄소배출권 사업

• 01 파리협약(21년~ 시행)에 따라 전지구적 온실가스 감축 의무 발생
• 02 개도국 기업의 온실가스 저감실적을 UNFCCC로부터 인정받음
• 03 온실가스 감축을 위한 기술/자원을 개도국 기업에 투자
• 04 인정받은 온실가스 저감실적을 한국의 탄소배출권 시장에 판매

해외 질산 생산 과정에서 배출되는
N₂O 저감사업 추진 中

(N₂O의 지구 온난화지수는 약 265)

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  ECOSORB IAC-130

  대기 유해가스 및 산업현장 배기가스, 실험실 후드 등에 발생되는 유해가스들을 흡착 제거합니다. 산성(SOx, NOx, HCl, HF 등), 염기성(NH3, TMA), 저급 지방산류 및 오존 등 다양한 가스를 제어합니다.

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  ECOSORB IAC-900

  도료를 취급하는 공정, 접착제를 사용하는 공정, 유기용매를 사용하는 반도체, 디스플레이 공정, 또한 이를 실험하는 실험실 등에서 발생되는 다양한 유기가스(VOCs)를 흡착 제거합니다. 대표적으로 톨루엔, 벤젠, 자일렌, MEK, IPA, 아세톤, PGMEA, 뷰틸아세테이트, HMDS, 메틸렌클로라이드 등 다양한 VOCs 가스를 제어합니다.

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  ECOSORB IAC-100

  음식물 쓰레기, 정수, 하수, 폐수 처리장과 같은 공공운영 시설 및 산업현장에서 발생되는 각종 악취 유발 가스를 제거합니다. H₂S, CH₃SH, DMDS, 아세트알데히드, 포름알데히드, 및 저급 알데히드류 등이 다양한 가스를 제어합니다.

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  ECOSORB IAC-139

  바이오 가스화, 음식물, 하수, 폐수처리장과 같은 공공운영 시설 및 산업현장에서 발생하는 다양한 복합 악취 가스를 제거합니다. 산성, 염기성, 알데히드류, 황 화합물 가스 및 휘발성 유기화합물 가스가 포함된 22종 지정악취 물질을 제어합니다.

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  ECOSORB IAC-1390

  반도체 공정가스와 폐 가스로 발생되는 다양한 산성 및 Toxic(유해)가스 흡착하여 제거합니다.아르신(AsH₃), 포스핀(PH₃), CO, Cl₂, F₂, SiF₄, GeF₄, SiH₄, BCl₃, H₂SO₄, HCl, BBr₃ 등 다양한 가스를 제어합니다.

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  PFC 분해 촉매(NOx+N₂O)

  반도체 제조 공정 중에 배출되는 PFCs 가스를 분해하기 위해서는 1,400℃ 이상의 상당히 높은 온도가 필요하였으나, 당사의 촉매는 저온 산화 분해를 유도하는 PFC 촉매를 이용하여 750℃ 이하 온도에서 99% 이상의 제거효율을 보여주는 특화된 제품입니다.

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  VOCs 산화 촉매

  도료, 접착, 코팅공정과 같은 다양한 산업분야에서 발생되는 THC는 각각의 발생원에 따라 농도, Gas 조성, Gas 량, 온도 등의 따라 크게 다르며, 당사의 VOCs 산화 촉매는 THC를 경제적, 효율적으로 제거하기 위해 저온에서 고온까지 VOCs를 산화 시킬 수 있는 촉매 개발하였습니다.

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  CO+VOCs+O₃ 촉매

  에코프로의 화학촉매는 산업, 가정, 공공시설에서 발생되는 다양한 유해가스를 선택적으로 촉매 산화 반응을 거쳐 무해한 가스로 분해하는 제품입니다. 산업현장 및 반도체 공정가스와 일상생활에서 발생하는 일산화탄소(CO)를 상온에서 흡착하여 촉매 산화 반응을 통하여 제거합니다.

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  복합 악취 촉매

  에코프로의 복합 악취 촉매는 음식물폐기물, 하수, 폐수 및 분뇨처리장과 같은 공공처리시설과 바이오 가스화 시설에서 발생되는 고농도 황화합물, 알데히드류, 저급 지방산, 암모니아와 같은 복합 악취 가스를 저온 및 중온에서 (80~400℃) 촉매 산화 방식으로 분해할 수 있는 화학 촉매입니다. 즉, 화학 흡착제 및 촉매를 연계하여 악취 가스를 제거하는 Hybrid 시스템입니다.

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  SCR 촉매

  일반적으로 질소산화물은 열 병합 발전소, 화력발전소, 소각로, 산업체 보일러 등의 고정 오염원 또는 자동차, 선박엔진, 기관차 등의 오염원에서 LNG, 중유 및 경유, 석탄 등과 같은 연료의 연소에 의해 발생합니다. 에코프로의 촉매는 저온과 고온에서 90% 이상의 높은 전환율을 확보할 수 있는 특화된 촉매입니다.